钢铁研究学报

作者：黎先浩，马双印，赵鹏飞，于海彬，王德坤，龙毅

单位：1.首钢智新迁安电磁材料有限公司产品研发中心，河北迁安064404；2.北京科技大学材料科学与工程学院，北京100083；3.首钢智新迁安电磁材料有限公司技术一贯部，河北迁安064404

关键词：关键词：取向硅钢,Bitter粉纹法,磁畴变化,表面缺陷,微磁学模拟

摘要：取向硅钢的磁畴形态与其损耗密切相关，研究其内部的磁畴结构对于理解铁损的产生具有重要意义。利用粉纹法观察了带有涂层、激光刻痕处理以及存在表面缺陷的硅钢片磁畴。结果表明，施加较小的垂直磁场更容易观察硅钢的原始磁畴形态，有利于显示清晰的磁畴图像和晶界；如果硅钢片表面存在冲裁小孔，原有的180°畴在小孔附近会变为迷宫畴，且附加应力和退磁场作用会使小孔周围磁畴细化，使用微磁学模拟的方法定性验证了这一变化；如果硅钢表面存在划痕，划痕两端的180°畴会变为迷宫畴，随着划痕方向的不同，磁畴形态也不同。最后，比较了圆盘剪裁切与线切割后硅钢片边缘的磁畴形态，讨论了其磁畴形态不同的原因。

来源：2023年第4期

《钢铁研究学报》期刊编辑部

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